潔凈技術(shù)

潔凈技術(shù)和裝備的市場(chǎng)十分巨大，隨著我國(guó)高新技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光電器件工業(yè)、生物工程、醫(yī)藥工業(yè)的發(fā)展，我國(guó)潛在的巨大的潔凈技術(shù)產(chǎn)品市場(chǎng)，以每年40％~50％的增長(zhǎng)速度在增加。 
 
      潔凈技術(shù)又稱為生產(chǎn)環(huán)境和污染控制技術(shù)，是近二、三十年來(lái)隨著高新技術(shù)發(fā)展起來(lái)的一門綜合性的新興科學(xué)技術(shù)。潔凈技術(shù)專門并潔凈的生產(chǎn)工藝環(huán)境和生產(chǎn)過(guò)程中使用的各種高純介質(zhì)，有效地控制微量雜質(zhì)，以保證高科技產(chǎn)品的成品率和可靠性。潔凈技術(shù)通常包括：空氣凈化技術(shù)、空調(diào)技術(shù)、水純化技術(shù)、氣體純化技術(shù)、微量雜質(zhì)控制技術(shù)、潔凈環(huán)境的監(jiān)測(cè)技術(shù)及相關(guān)的環(huán)境質(zhì)量的控制技術(shù)。凈化工程技術(shù)在電子、核子、航空航天、生物工程、制藥、精密機(jī)械、化工、食品、汽車制造等高科技工業(yè)領(lǐng)域及現(xiàn)代科學(xué)領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。 

       對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備來(lái)講，凈化工程技術(shù)在微電子技術(shù)中起著十分重要的作用。微電子技術(shù)的核心是集成電路，而集成電路的生產(chǎn)對(duì)其工藝環(huán)境和工藝流程中的凈化技術(shù)和設(shè)備提出了嚴(yán)格的要求。我國(guó)“九五”期間大力發(fā)展以微電子為重點(diǎn)的信息產(chǎn)業(yè)。凈化工程技術(shù)水平在某種意義上已成為衡量一個(gè)國(guó)家和地區(qū)科學(xué)技術(shù)水平和工業(yè)水平的一個(gè)重要標(biāo)志。

     隨著我國(guó)人民生活水平提高，人們對(duì)生存環(huán)境及生活質(zhì)量提出了越來(lái)越高要求，用水純化設(shè)備制備的高純水已受到人們普遍歡迎，凈化工程技術(shù)已開(kāi)始進(jìn)入千家萬(wàn)戶，進(jìn)入人們的現(xiàn)代生活。

     我國(guó)的潔凈技術(shù)和設(shè)備如凈化工作臺(tái)與國(guó)家相比差距是明顯的，我國(guó)1965年才開(kāi)始生產(chǎn)的HEPA過(guò)濾器，比晚了十五年。1975年開(kāi)始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計(jì)數(shù)器比晚了二十年。0．1微米潔凈技術(shù)和設(shè)備在上國(guó)家已成為成熟技術(shù)，我國(guó)則剛剛起步。

     世界各工業(yè)國(guó)家為適應(yīng)凈技術(shù)的發(fā)展，對(duì)大量使用的過(guò)濾器的從未中斷，幾年來(lái)一直在開(kāi)發(fā)不同結(jié)構(gòu)不同性能的新產(chǎn)品，美國(guó)自1979年開(kāi)始研制0．1微米PA過(guò)濾器，1984年美國(guó)AAF公司開(kāi)始生產(chǎn)0．1微米無(wú)隔板PA過(guò)濾器，目前0．1微米PA過(guò)濾器在美國(guó)AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDGE公司已形成商品化生產(chǎn)。日本也已成為世界上生產(chǎn)0．1微米PA過(guò)濾器多的國(guó)家，品種繁多，產(chǎn)品系列化，尤其是低壓損型0．1微米PA過(guò)濾器的開(kāi)發(fā)成功解決了初阻力大的技術(shù)難題。市場(chǎng)對(duì)空氣過(guò)濾器的需求量很大，且每年均有增長(zhǎng)，目前日本每年銷售過(guò)100萬(wàn)臺(tái)，按每臺(tái)平均200美元計(jì)算，銷售額達(dá)2億美元。我國(guó)空氣過(guò)濾器市場(chǎng)需求量已接近每年10萬(wàn)臺(tái)，占市場(chǎng)的2％~4％，但至今還沒(méi)有0．1微米PA過(guò)濾器生產(chǎn)，用于大規(guī)模集成電路生產(chǎn)潔凈廠房及各種高科技領(lǐng)域潔凈廠房的0．1微米PA過(guò)濾器目前還要依賴。

    在潔凈室建設(shè)規(guī)模和技術(shù)水平上，我國(guó)與國(guó)家差距更大。日本清水建設(shè)公司，1982年到1987年期間承建的潔凈室面積達(dá)71．8萬(wàn)平方米，而我國(guó)目前一年承建的潔凈室總面積還不到10萬(wàn)平方米，但八五期間有較大發(fā)展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬(wàn)平方米。美國(guó)的潔凈室建設(shè)規(guī)模更大，1998年統(tǒng)計(jì)已達(dá)188．5萬(wàn)平方米。在潔凈工程技術(shù)水平上，80年代末期，已大量建成0．1微米級(jí)的凈室，1987年日本三洋新瀉工場(chǎng)建成十級(jí)潔凈廠房3000平方米，NIT原木則建成了四個(gè)1000平方米控制0．1微米塵埃的千級(jí)廠房，換氣次數(shù)高達(dá)300次／分。美國(guó)在中國(guó)臺(tái)灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達(dá)10000平方米。我國(guó)使用的0，1微米十級(jí)潔凈室主要依賴從。由于高潔凈的潔凈室造價(jià)十分昂貴，0．1微米十級(jí)潔凈室每平方米造價(jià)高達(dá)1萬(wàn)美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當(dāng)高的比例，這與集成電路工藝不斷更新，產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來(lái)越快的發(fā)展趨勢(shì)不相適應(yīng)，嚴(yán)重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。